Templat:Semiconductor manufacturing processes

Dari Wikipedia bahasa Indonesia, ensiklopedia bebas

Revisi sejak 7 Maret 2023 10.52 oleh Rudiwaka (bicara | kontrib) (templat baru)

(beda) ← Revisi sebelumnya | Revisi terkini (beda) | Revisi selanjutnya → (beda)

Important: read the documentation before modifying this template.

Pembuatan perangkat semikonduktor

MOSFET scaling (node proses)
010 µm – 1971 006 µm – 1974 003 µm – 1977 1.5 µm – 1981 001 µm – 1984 800 nm – 1987 600 nm – 1990 350 nm – 1993 250 nm – 1996 180 nm – 1999 130 nm – 2001 090 nm – 2003 065 nm – 2005 045 nm – 2007 032 nm – 2009 022 nm – 2012 014 nm – 2014 010 nm – 2016 007 nm – 2018 005 nm – 2020 003 nm – 2022
Future 002 nm ~ 2024
Half-nodes Density CMOS Perangkat (multi-gate) Hukum Moore Transistor count Semikonduktor Industri Nanoelektronik
l b s

Diperoleh dari "https://wiki-indonesia.club/w/index.php?title=Templat:Semiconductor_manufacturing_processes&oldid=23080572"

Sidebar dengan style yang membutuhkan konversi