Lompat ke isi

Fotoresis

Dari Wikipedia bahasa Indonesia, ensiklopedia bebas
Revisi sejak 20 Juni 2006 08.07 oleh Yoyokits (bicara | kontrib)
(beda) ← Revisi sebelumnya | Revisi terkini (beda) | Revisi selanjutnya → (beda)

Photoresist adalah bahan yang bereaksi jika terkena cahaya. Bahan ini jika dikenai cahaya akan larut (photoresis positif) atau akan menjadi tidak larut (photoresist negatif). Photoresist digunakan dalam proses photolithograpy dan merupakan bagian dari proses di pembuatan microsystem.